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技術(shù)交流

等離子處理設(shè)備在行業(yè)的廣泛應(yīng)用于

發(fā)布時(shí)間:2018/8/31 8:28:31 | 信息來(lái)源:
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等離子處理設(shè)備在行業(yè)的廣泛應(yīng)用于:
等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過(guò)其處理,能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1.環(huán)保技術(shù):等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

2.廣適性:不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理;

3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。

4.功能強(qiáng):僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000A ),可在保持材料自身特性的同時(shí),賦予其一種或多種新的功能;

5.低成本:裝置簡(jiǎn)單,易操作維修,可連續(xù)運(yùn)行,往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。

6.全過(guò)程可控工藝:所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄,進(jìn)行質(zhì)量控制。

7.處理物幾何形狀無(wú)限制:大或小,簡(jiǎn)單或復(fù)雜,部件或紡織品,均可處理。

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