技術(shù)交流
真空等離子清洗機對比傳統(tǒng)清洗的優(yōu)勢
等離子清洗機在傳統(tǒng)的濕法清洗是采用化學(xué)清洗的方法:如氫氧化氨/雙氧水去除硅片表面的顆粒和有機物;用鹽酸/雙氧水去除表面金屬;用氫氟酸去除表面自然氧化層;用硫酸/雙氧水去除表面金屬和有機物。
真空等離子清洗機濕法清洗作為傳統(tǒng)的清洗方法依然還被應(yīng)用,與現(xiàn)在等離子技術(shù)應(yīng)用還是有很多缺點:
1、不能精確控制;
2、容易引入新的雜質(zhì);
3、對殘余物不能處理;
4、消耗大量的酸和水;
5、清洗不徹底,需反復(fù)清洗;
6、污染環(huán)境,需對廢液進(jìn)行處理;