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技術(shù)交流

等離子體清洗可不可以不分處理對象?

發(fā)布時間:2020/3/10 8:09:07 | 信息來源:
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等離子表面處理技術(shù)進行預處理的優(yōu)點和特性:
1
、具有完全的“在線”集成能力(不干擾原有的工藝運行) 節(jié)能、低成本、環(huán)保
2
、不會改變鋁箔的機械特性
3
、可實現(xiàn)選擇性的、局部清洗
4
、可對鋁箔進行雙面處理
5
、處理工序可以集成在卷繞裝置前一、等離子處理器清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以整個工藝流水線的處理效率;


二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;


三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;


       
四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好;


       
五、使用等離子清洗機,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點;


       
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;


七、使用等離子清洗,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;


八、等離子體清洗可以不分處理對象,它可以處理各種各樣的材質(zhì),無論是金屬、半導體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗;


九、在完成清洗去污的同時,還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。實驗中當我們想要對各種材料的表面做清洗活化腐蝕沉積或者聚合等操作的時候,必不可少的就是一臺低溫等離子處理設(shè)備,而作為實驗室經(jīng)常使用的高精尖設(shè)備,如果使用低溫等離子設(shè)備的操作不當很有可能導致設(shè)備損壞或者運行結(jié)果受到影響,低溫等離子清洗設(shè)備使用的注意事項。




一,低溫等離子清洗設(shè)備在運行的時候?qū)τ陔娫吹囊笫?span>220V
的交流電頻率為50HZ的電源,應(yīng)該在開啟設(shè)備之前做好電源的連接和檢查工作,設(shè)備運行之后應(yīng)該發(fā)出的是平穩(wěn)的運轉(zhuǎn)聲,而且通常會有綠色的指示燈常亮來顯示設(shè)備正常運行,如果出現(xiàn)黃色故障燈亮起,則要停止運行進行排休檢查。


二,在使用三和波達低溫等離子清洗設(shè)備的時候,應(yīng)該特別注意紅色的警示燈,通常設(shè)備運行出現(xiàn)問題或者抖動頻率過快的情況下紅色燈會常亮,這個時候應(yīng)該馬上按下復位鍵觀察設(shè)備,如果設(shè)備依然出現(xiàn)異常則應(yīng)該停止設(shè)備的運行,然后進行故障的排查,以避免設(shè)備出現(xiàn)損壞。


三,在使用低溫等離子清洗設(shè)備的時候要定期清洗,而清洗的時候必須要先斷開電源,然后再打開真空倉和電控箱,而且注意按照說明書上要求的規(guī)范清洗,除此之外現(xiàn)在很多低溫等離子設(shè)備的真空倉都是外置環(huán)形電級所以不容易出現(xiàn)腔內(nèi)污染。



綜上所訴可知:等離子清洗技術(shù)適用于對物體表面的油,水及微粒等輕度油污進行清洗,而且利于“速戰(zhàn)速決”的在線或批量清洗。以上提到的幾點基本上是所有類型的低溫等離子清洗設(shè)備的使用注意事項,而隨著設(shè)備的種類日漸繁多,操作人員在使用前應(yīng)該詳細閱讀并了解使用說明才行,很多低溫等離子設(shè)備還需要操作人員受到上崗培訓才行。而且隨著很多低溫等離子設(shè)備開始帶有自潔功能,設(shè)備的日常保養(yǎng)也變得更加簡潔。

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