等離子體放電過程中產(chǎn)生臭氧的基本原理是含氧氣體在放電反應(yīng)器內(nèi)所形成的低溫等離子體氛圍中，一定能量的自由電子將氧分子分解成氧原子，之后通過三體碰撞反應(yīng)形成臭氧分子，同時(shí)也發(fā)生著臭氧的分解反應(yīng)。
臭氧，化學(xué)分子式為O3，又稱三原子氧、超氧，因其類似魚腥味的臭味而得名，在常溫下可以自行還原為氧氣。比重比氧大，易溶于水，易分解。由于臭氧是由氧分子攜帶一個(gè)氧原子組成，決定了它只是一種暫存狀態(tài)，攜帶的氧原子除氧化用掉外，剩余的又組合為氧氣進(jìn)入穩(wěn)定狀態(tài)，所以臭氧沒有二次污染。

如果我們通入的氣體中含有氧氣，那么在反應(yīng)過程中就會(huì)產(chǎn)生少量的臭氧，正是因?yàn)橛谐粞醯漠a(chǎn)生，所以我們?cè)谑褂玫入x子設(shè)備中頻，射頻等離子處理機(jī)型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準(zhǔn)輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設(shè)備；
等離子處理機(jī)具有高穩(wěn)定性、高性價(jià)比、高均勻性等諸多優(yōu)點(diǎn)。
特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
低溫等離子體表面處理設(shè)備、水平式低溫等離子體表面處理設(shè)備、卷對(duì)卷式低溫等離子體表面處理設(shè)備、以及大氣壓輝光放電表面處理設(shè)備真空等離子表面處理機(jī)活化特點(diǎn)：


在等離子體作用下，難粘塑料表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵，這些活性基團(tuán)與等離子體中的活性粒子接觸會(huì)反應(yīng)生成新的活性基團(tuán)。但是，帶有活性基團(tuán)的材料會(huì)受到氧的作用或分子鏈段運(yùn)動(dòng)的影響，使表面活性基團(tuán)消失。


在等離子體對(duì)材料表面改性中，由于等離子體中活性粒子對(duì)表面分子的作用，使表面分子鏈斷裂產(chǎn)生新的自由基、雙鍵等活性基團(tuán)，隨之發(fā)生表面交聯(lián)、接枝等反應(yīng)。


反應(yīng)型等離子體是指等離子體中的活性粒子能與難粘材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而引入大量的極性基團(tuán)，使材料表面從非極性轉(zhuǎn)向極性，表面張力提高，可粘接性增強(qiáng)。


此外，難粘材料表面在等離子體的高速?zèng)_擊下，分子鏈發(fā)生斷裂交聯(lián)，使表面分子的相對(duì)分子質(zhì)量增大，改善了弱邊界層的狀況，也對(duì)表面粘接性能的提高起到了積極作用”。


反應(yīng)型等離子體活性氣體主要是02、H：、NH3、C02、H20、S02、H√H20、空氣、甘油蒸汽和乙醇蒸汽等。