等離子表面處理技術(shù)進(jìn)行預(yù)處理的優(yōu)點(diǎn)和特性：
1、具有完全的“在線”集成能力（不干擾原有的工藝運(yùn)行） 節(jié)能、低成本、環(huán)保
2、不會(huì)改變鋁箔的機(jī)械特性
3、可實(shí)現(xiàn)選擇性的、局部清洗
4、可對(duì)鋁箔進(jìn)行雙面處理
5、處理工序可以集成在卷繞裝置前等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

等離子體產(chǎn)生的條件：足夠的反應(yīng)氣體和反應(yīng)氣壓，反應(yīng)產(chǎn)物須能高速撞擊清洗物的表面，具有足夠的能量供應(yīng)，反應(yīng)后所產(chǎn)生的物質(zhì)必須是可揮發(fā)性的細(xì)微結(jié)合物,以便于真空泵將其抽走，泵的容量和速度須足夠大,以便迅速排出反應(yīng)的副產(chǎn)品,并且需要快速地再填充反應(yīng)所需的氣體。

等離子清洗機(jī)為什么會(huì)產(chǎn)生臭味？
答案是：臭氧在作怪

等離子體放電過程中產(chǎn)生臭氧的基本原理是含氧氣體在放電反應(yīng)器內(nèi)所形成的低溫等離子體氛圍中，一定能量的自由電子將氧分子分解成氧原子，之后通過三體碰撞反應(yīng)形成臭氧分子，同時(shí)也發(fā)生著臭氧的分解反應(yīng)。

臭氧，化學(xué)分子式為O3，又稱三原子氧、超氧，因其類似魚腥味的臭味而得名，在常溫下可以自行還原為氧氣。比重比氧大，易溶于水，易分解。由于臭氧是由氧分子攜帶一個(gè)氧原子組成，決定了它只是一種暫存狀態(tài)，攜帶的氧原子除氧化用掉外，剩余的又組合為氧氣進(jìn)入穩(wěn)定狀態(tài)，所以臭氧沒有二次污染。

如果我們通入的氣體中含有氧氣，那么在反應(yīng)過程中就會(huì)產(chǎn)生少量的臭氧，正是因?yàn)橛谐粞醯漠a(chǎn)生，所以我們?cè)谑褂玫入x子清洗機(jī)的時(shí)候有時(shí)會(huì)聞到一股臭味，這就是為什么等離子清洗機(jī)會(huì)產(chǎn)生臭味的原因了。實(shí)驗(yàn)中當(dāng)我們想要對(duì)各種材料的表面做清洗活化腐蝕沉積或者聚合等操作的時(shí)候，必不可少的就是一臺(tái)低溫等離子處理設(shè)備，而作為實(shí)驗(yàn)室經(jīng)常使用的高精尖設(shè)備，如果使用低溫等離子設(shè)備的操作不當(dāng)很有可能導(dǎo)致設(shè)備損壞或者運(yùn)行結(jié)果受到影響，低溫等離子清洗設(shè)備使用的注意事項(xiàng)。




一，低溫等離子清洗設(shè)備在運(yùn)行的時(shí)候?qū)τ陔娫吹囊笫?span>220V的交流電頻率為50HZ的電源，應(yīng)該在開啟設(shè)備之前做好電源的連接和檢查工作，設(shè)備運(yùn)行之后應(yīng)該發(fā)出的是平穩(wěn)的運(yùn)轉(zhuǎn)聲，而且通常會(huì)有綠色的指示燈常亮來顯示設(shè)備正常運(yùn)行，如果出現(xiàn)黃色故障燈亮起，則要停止運(yùn)行進(jìn)行排休檢查。


二，在使用三和波達(dá)低溫等離子清洗設(shè)備的時(shí)候，應(yīng)該特別注意紅色的警示燈，通常設(shè)備運(yùn)行出現(xiàn)問題或者抖動(dòng)頻率過快的情況下紅色燈會(huì)常亮，這個(gè)時(shí)候應(yīng)該馬上按下復(fù)位鍵觀察設(shè)備，如果設(shè)備依然出現(xiàn)異常則應(yīng)該停止設(shè)備的運(yùn)行，然后進(jìn)行故障的排查，以避免設(shè)備出現(xiàn)損壞。


三，在使用低溫等離子清洗設(shè)備的時(shí)候要定期清洗，而清洗的時(shí)候必須要先斷開電源，然后再打開真空倉和電控箱，而且注意按照說明書上要求的規(guī)范清洗，除此之外現(xiàn)在很多低溫等離子設(shè)備的真空倉都是外置環(huán)形電級(jí)所以不容易出現(xiàn)腔內(nèi)污染。



綜上所訴可知：等離子清洗技術(shù)適用于對(duì)物體表面的油，水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗，而且利于“速戰(zhàn)速?zèng)Q”的在線或批量清洗。以上提到的幾點(diǎn)基本上是所有類型的低溫等離子清洗設(shè)備的使用注意事項(xiàng)，而隨著設(shè)備的種類日漸繁多，操作人員在使用前應(yīng)該詳細(xì)閱讀并了解使用說明才行，很多低溫等離子設(shè)備還需要操作人員受到上崗培訓(xùn)才行。而且隨著很多低溫等離子設(shè)備開始帶有自潔功能，設(shè)備的日常保養(yǎng)也變得更加簡潔。