真空表面處理機(jī)相關(guān)的安全預(yù)防措施
1、關(guān)閉小型真空等離子表面處理機(jī)設(shè)備電源開關(guān),切斷總電源保護(hù)器。
2、關(guān)閉所有的氣體。
3、準(zhǔn)備必要的工具包。
4、是維護(hù)保養(yǎng)真空腔和真空發(fā)生系統(tǒng):
(1)真空腔是加工工件的工作區(qū)域,使用一定時(shí)間后,空腔內(nèi)會(huì)殘留部分污物,這些污物附著在電極板和空腔壁上。
清洗方法:連續(xù)使用一定時(shí)間后,用無塵布(紙)沾酒精清洗所有的電極板和腔壁,保持腔壁清潔。
(2)觀察窗是指工作人員在工作時(shí)觀察真空等離子表面處理機(jī)腔體內(nèi)放電的用的,在使用了氣體蝕刻之后,會(huì)造成觀察窗的表面發(fā)生微蝕,使觀察窗變得模糊。等離子處理設(shè)備工作原理
廢氣處理中洗滌系統(tǒng)用來和廢氣在洗滌塔內(nèi)進(jìn)行預(yù)處理化學(xué)反應(yīng),去處粉塵且通過化學(xué)反應(yīng)后的氣體達(dá)到廢氣一級(jí)凈化處理,具體包括專用填料、噴淋裝置、脫水層、風(fēng)機(jī)、加藥系統(tǒng)等。
低溫等離子凈化器內(nèi)部裝有獨(dú)特的碰吸單元,截留去除廢氣中的顆粒物質(zhì),廢氣收集系統(tǒng)收集的多元素氣體經(jīng)過等離子活性氧凈化裝置,在高壓等離子電場(chǎng)的作用下,電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進(jìn)行電離荷電凈化,帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲(chǔ)塵箱內(nèi),氣體內(nèi)的有害氣體被電場(chǎng)內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌,并去除了異味,有害氣體被除掉,達(dá)到廢氣處理的目的。
吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設(shè)備。由箱體和裝填在箱體內(nèi)的吸附單元組成,吸附單元根據(jù)廢氣處理要求添加催化劑達(dá)到進(jìn)一步去處異味氣體的目的??刂葡到y(tǒng)主要用來控制系統(tǒng)開機(jī)、停運(yùn),并對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行效果進(jìn)行檢測(cè),反饋。
等離子處理設(shè)備工藝流程
氣體收集系統(tǒng)—預(yù)處理噴淋洗滌系統(tǒng)—低溫等離子凈化系統(tǒng)—深度氣體吸附催化系統(tǒng)—排放系統(tǒng)—控制系統(tǒng)氣體收集系統(tǒng)主要是將構(gòu)筑物自由揮發(fā)的氣體收集起來并輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)。具體包括氣罩系統(tǒng)、管道輸送系統(tǒng)和風(fēng)機(jī)。
等離子噴涂的基礎(chǔ)發(fā)展了新的技術(shù)
1.真空等離子噴涂(又叫低壓等離子噴涂)
真空等離子噴涂是在氣氛可控的,4~40Kpa的密封室內(nèi)進(jìn)行噴涂的技術(shù)。
因?yàn)楣ぷ鳉怏w等離子化后,是在低壓氣氛中邊膨脹體積邊噴出的,所以噴流速度是超音速的,而且非常適合于對(duì)氧化高度敏感的材料。
2.水穩(wěn)等離子噴涂
前面說的等離子噴涂的工作介質(zhì)都是氣體,而這種方法的工作介質(zhì)不是氣而是水,它是一種高功率或高速等離子噴涂的方法,其工作原理是:
噴槍內(nèi)通入高壓水流,并在槍筒內(nèi)壁形成渦流,這時(shí),在槍體后部的陰極和槍體前部的旋轉(zhuǎn)陽極間產(chǎn)生直流電弧,使槍筒內(nèi)壁表面的一部分蒸發(fā)、分解,變成等離子態(tài),產(chǎn)生連續(xù)的等離子弧。由于旋轉(zhuǎn)渦流水的聚束作用,其能量密度提高,燃燒穩(wěn)定,因此,可噴涂高熔點(diǎn)材料,特別是氧化物陶瓷,噴涂效率非常高
3.氣穩(wěn)等離子噴涂
氣穩(wěn)等離子噴涂的原理是由等離子噴槍(等離子弧發(fā)生器)產(chǎn)生等離子射流(電弧焰流)。噴槍的電極(陰極)和噴嘴(陽極)分別接整流電源的正、負(fù)極,向噴槍供給工作氣體(Ar、N2等),通過高頻火花引燃電弧。電弧將氣體加熱到很高的溫度,使氣體電離,在熱收縮效應(yīng)、自磁收縮效應(yīng)和機(jī)械效應(yīng)的作用下,電弧被壓縮,產(chǎn)生非轉(zhuǎn)移性等離子弧。高溫等離子氣體從噴嘴噴出后,體積迅速膨脹,形成高溫高速等離子射流。送分氣流推動(dòng)粉末進(jìn)入等離子射流后,被迅速加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并將等離子射流加速,形成飛翔基材的噴涂離子束,陸續(xù)撞擊到經(jīng)預(yù)處理的基材表面,形成涂層。大氣等離子噴涂用氬氣、氮?dú)?、氫氣作為等離子氣。