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技術(shù)交流

等離子表面處理器怎么處理碳化氫類污物

發(fā)布時(shí)間:2021/4/2 8:56:25 | 信息來(lái)源:
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等離子噴涂的基礎(chǔ)發(fā)展了新的技術(shù)

1.
真空等離子噴涂(又叫低壓等離子噴涂)

真空等離子噴涂是在氣氛可控的,440Kpa的密封室內(nèi)進(jìn)行噴涂的技術(shù)。
因?yàn)楣ぷ鳉怏w等離子化后,是在低壓氣氛中邊膨脹體積邊噴出的,所以噴流速度是超音速的,而且非常適合于對(duì)氧化高度敏感的材料。

2.
水穩(wěn)等離子噴涂

前面說(shuō)的等離子噴涂的工作介質(zhì)都是氣體,而這種方法的工作介質(zhì)不是氣而是水,它是一種高功率或高速等離子噴涂的方法,其工作原理是:
噴槍內(nèi)通入高壓水流,并在槍筒內(nèi)壁形成渦流,這時(shí),在槍體后部的陰極和槍體前部的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極間產(chǎn)生直流電弧,使槍筒內(nèi)壁表面的一部分蒸發(fā)、分解,變成等離子態(tài),產(chǎn)生連續(xù)的等離子弧。由于旋轉(zhuǎn)渦流水的聚束作用,其能量密度提高,燃燒穩(wěn)定,因此,可噴涂高熔點(diǎn)材料,特別是氧化物陶瓷,噴涂效率非常高

3.
氣穩(wěn)等離子噴涂

氣穩(wěn)等離子噴涂的原理是由等離子噴槍(等離子弧發(fā)生器)產(chǎn)生等離子射流(電弧焰流)。噴槍的電極(陰極)和噴嘴(陽(yáng)極)分別接整流電源的正、負(fù)極,向噴槍供給工作氣體(Ar、N2等),通過(guò)高頻火花引燃電弧。電弧將氣體加熱到很高的溫度,使氣體電離,在熱收縮效應(yīng)、自磁收縮效應(yīng)和機(jī)械效應(yīng)的作用下,電弧被壓縮,產(chǎn)生非轉(zhuǎn)移性等離子弧。高溫等離子氣體從噴嘴噴出后,體積迅速膨脹,形成高溫高速等離子射流。送分氣流推動(dòng)粉末進(jìn)入等離子射流后,被迅速加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并將等離子射流加速,形成飛翔基材的噴涂離子束,陸續(xù)撞擊到經(jīng)預(yù)處理的基材表面,形成涂層。大氣等離子噴涂用氬氣、氮?dú)?、氫氣作為等離子氣。等離子處理機(jī)對(duì)各種電路板的表面處理

1.
噴射出的等離子體流為中性,不帶電 ,可以對(duì)各種高分子、金屬、半導(dǎo)體、橡膠、PCB電路板等材料進(jìn)行表面處理。

2.
等離子表面處理器處理后去除了碳化氫類污物,如油脂,輔助添加劑,有利于粘結(jié)、性能持久穩(wěn)定,保持時(shí)間長(zhǎng)。

3.
溫度低、適合運(yùn)用于那些表面材料對(duì)溫度敏感的制品。

4.
不需要箱體,可以直接安裝在生產(chǎn)線上,在線運(yùn)行處理。相對(duì)與磨邊機(jī)的反向運(yùn)行,大大提高了工作效率。

5.
只消耗空氣和電,因此運(yùn)行成本低,操作更安全。

6.
干式方法處理無(wú)污染,無(wú)廢水,符合環(huán)保要求;并且替代了傳統(tǒng)的磨邊機(jī),杜絕了紙粉紙毛對(duì)環(huán)境及設(shè)備的影響。

7.
經(jīng)等離子表面處理器處理后,可采用普通膠水來(lái)粘盒,降低了生產(chǎn)成本。

等離子處理設(shè)備工作原理

廢氣處理中洗滌系統(tǒng)用來(lái)和廢氣在洗滌塔內(nèi)進(jìn)行預(yù)處理化學(xué)反應(yīng),去處粉塵且通過(guò)化學(xué)反應(yīng)后的氣體達(dá)到廢氣一級(jí)凈化處理,具體包括專用填料、噴淋裝置、脫水層、風(fēng)機(jī)、加藥系統(tǒng)等。

低溫等離子凈化器內(nèi)部裝有獨(dú)特的碰吸單元,截留去除廢氣中的顆粒物質(zhì),廢氣收集系統(tǒng)收集的多元素氣體經(jīng)過(guò)等離子活性氧凈化裝置,在高壓等離子電場(chǎng)的作用下,電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進(jìn)行電離荷電凈化,帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲(chǔ)塵箱內(nèi),氣體內(nèi)的有害氣體被電場(chǎng)內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌,并去除了異味,有害氣體被除掉,達(dá)到廢氣處理的目的。

吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設(shè)備。由箱體和裝填在箱體內(nèi)的吸附單元組成,吸附單元根據(jù)廢氣處理要求添加催化劑達(dá)到進(jìn)一步去處異味氣體的目的??刂葡到y(tǒng)主要用來(lái)控制系統(tǒng)開機(jī)、停運(yùn),并對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行效果進(jìn)行檢測(cè),反饋。

等離子處理設(shè)備工藝流程

氣體收集系統(tǒng)—預(yù)處理噴淋洗滌系統(tǒng)—低溫等離子凈化系統(tǒng)—深度氣體吸附催化系統(tǒng)—排放系統(tǒng)—控制系統(tǒng)氣體收集系統(tǒng)主要是將構(gòu)筑物自由揮發(fā)的氣體收集起來(lái)并輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)。具體包括氣罩系統(tǒng)、管道輸送系統(tǒng)和風(fēng)機(jī)。

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