技術(shù)交流
大氣等離子處理機(jī)氬氣/氮?dú)?組合
大氣等離子處理機(jī)技術(shù)的特點(diǎn)：
1. 均勻度高。大氣等離子是輝光式的等離子幕，直接作用于材料表面，實(shí)驗(yàn)證明，同一材料不同位置的處理均勻性很高，這一特性對(duì)于工業(yè)領(lǐng)域進(jìn)行下一環(huán)節(jié)的貼合、邦定、涂布、印刷等制程十分重要。
2. 效果可控。大氣等離子有三種效果模式可選。一是選用 氬氣/氧氣 組合，主要面向非金屬材料并且要求較高的表面親水效果時(shí)采用，比如玻璃，PET Film等。 二是選用 氬氣/氮?dú)?組合，主要面向各種金屬材料，如金線、銅線等。因氧氣的氧化作用，替換為此方案中的氮?dú)夂?，該?wèn)題可以得到有效控制。三是只采用氬氣的情況，只采用氬氣也可以實(shí)現(xiàn)表面改性，但是效果相對(duì)較弱。此為特殊情況，是少數(shù)工業(yè)客戶需要有限而均勻的表面改性時(shí)采用的方案。
3. 安全易用。大氣式等離子，也是低溫等離子，不會(huì)對(duì)材料表面造成損傷，例如對(duì)方阻值敏感的ITO Film材質(zhì)亦可處理。無(wú)電弧，無(wú)需真空腔體，也無(wú)需廢氣排放系統(tǒng)，長(zhǎng)時(shí)間使用并不會(huì)對(duì)操作人員造成身體損害。
4. 面積寬大。大氣等離子大可以處理2m寬的材料，可以滿足現(xiàn)有多數(shù)工業(yè)企業(yè)的需求。
5. 成本低廉。大氣等離子設(shè)備功耗低，運(yùn)行成本以氣體為主。以主要消耗氣體氬氣為例，同corona等離子氣體消耗量相比不足其1/20.當(dāng)今，等離子處理技術(shù)被廣泛應(yīng)用于材料表面處理和改性方面。 它通常使用在氣體相反應(yīng)室中產(chǎn)生的高溫、高能量電離氣體等離子體來(lái)處理物質(zhì)表面。 等離子體是一種由高能離子、原子和自由基組成的高度活躍的氣態(tài)。
等離子體產(chǎn)生的方式有許多種，包括電弧放電、RF放電、微波放電、脈沖放電等。不同類型的等離子發(fā)生器會(huì)影響到等離子鍋爐的工作效率和特征，這也是一個(gè)非常重要的問(wèn)題。
而將等離子體應(yīng)用于材料表面處理上，則可以通過(guò)等離子體的高能量作用于物質(zhì)表面來(lái)改變其化學(xué)和物理性質(zhì)，即所謂的等離子處理。等離子處理可以使物料表面結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，進(jìn)而提高其化學(xué)惰性、耐磨性、耐腐蝕性和界面附著性等性能。
等離子處理的機(jī)理主要來(lái)自于等離子體對(duì)表面的化學(xué)性質(zhì)和結(jié)構(gòu)具有顯著的影響。 高能量等離子體中存在大量自由基、激發(fā)態(tài)原子和離子，這些活性物質(zhì)能夠與材料表面上的化學(xué)成分進(jìn)行反應(yīng)，并導(dǎo)致表層物質(zhì)發(fā)生化學(xué)變化。
例如，氧離子在等離子處理中可以被用來(lái)氧化表面，從而使表面生成一定厚度的金屬氧化物。 與此同時(shí)，離子轟擊和沉積可以導(dǎo)致表層物質(zhì)生長(zhǎng)、縮短撞擊而導(dǎo)致失蹤， 鈍化表面原子并提高界面深度和耐久性。 等離子處理還可激活材料表面，促進(jìn)其吸附和潤(rùn)濕性能。
值得注意的是，等離子處理后多久有效受到許多因素的影響，包括表面材料的種類和形狀、等離子體處理參數(shù)和條件、環(huán)境濕度、溫度等。在實(shí)踐中， 大多數(shù)等離子處理數(shù)據(jù)都是通過(guò)定期測(cè)試表面性能的總體變化來(lái)確定其有效時(shí)間。
近年來(lái)，隨著等離子處理技術(shù)的不斷發(fā)展和完善，已經(jīng)發(fā)展出了許多新型的等離子發(fā)生器和處理方法，如等離子共聚變（ICP）和微波氣體放電等離子體等。 這些新技術(shù)的應(yīng)用，為以后改進(jìn)、提高等離子處理效果和表面材料性能提供了重要方法。
總之，等離子處理是一種主要通過(guò)改變物料表面結(jié)構(gòu)、形態(tài)和化學(xué)組成來(lái)增強(qiáng)其性能的表面工藝方法。 實(shí)際運(yùn)用中，等離子處理的有效時(shí)間受到多個(gè)因素的影響。 等離子技術(shù)的進(jìn)步也將不斷完善等離子處理技術(shù)，并推動(dòng)其更廣泛的應(yīng)用。等離子處理設(shè)備工作原理
廢氣處理中洗滌系統(tǒng)用來(lái)和廢氣在洗滌塔內(nèi)進(jìn)行預(yù)處理化學(xué)反應(yīng)，去處粉塵且通過(guò)化學(xué)反應(yīng)后的氣體達(dá)到廢氣一級(jí)凈化處理，具體包括專用填料、噴淋裝置、脫水層、風(fēng)機(jī)、加藥系統(tǒng)等。
低溫等離子凈化器內(nèi)部裝有獨(dú)特的碰吸單元，截留去除廢氣中的顆粒物質(zhì)，廢氣收集系統(tǒng)收集的多元素氣體經(jīng)過(guò)等離子活性氧凈化裝置，在高壓等離子電場(chǎng)的作用下，電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進(jìn)行電離荷電凈化，帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲(chǔ)塵箱內(nèi)，氣體內(nèi)的有害氣體被電場(chǎng)內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌，并去除了異味，有害氣體被除掉,達(dá)到廢氣處理的目的。
吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設(shè)備。由箱體和裝填在箱體內(nèi)的吸附單元組成，吸附單元根據(jù)廢氣處理要求添加催化劑達(dá)到進(jìn)一步去處異味氣體的目的?？刂葡到y(tǒng)主要用來(lái)控制系統(tǒng)開(kāi)機(jī)、停運(yùn)，并對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行效果進(jìn)行檢測(cè)，反饋。
等離子處理設(shè)備工藝流程
氣體收集系統(tǒng)—預(yù)處理噴淋洗滌系統(tǒng)—低溫等離子凈化系統(tǒng)—深度氣體吸附催化系統(tǒng)—排放系統(tǒng)—控制系統(tǒng)氣體收集系統(tǒng)主要是將構(gòu)筑物自由揮發(fā)的氣體收集起來(lái)并輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)。具體包括氣罩系統(tǒng)、管道輸送系統(tǒng)和風(fēng)機(jī)。
