等離子處理器由等離子發(fā)生器，氣體輸送管路及等離子噴頭等部分組成，等離子發(fā)生器產(chǎn)生高壓高頻能量在噴嘴鋼管中被激活和被控制的輝光放電中產(chǎn)生低溫等離子體，借助壓縮空氣將等離子噴向工件表面，當?shù)入x子體和被處理物體表面相遇時，產(chǎn)生了物體變化和化學反應。等離子處理器在清潔表面的特點
1.噴射出的等離子體流為中性，不帶電 ，可以對各種高分子、金屬、半導體、橡膠、PCB電路板等材料進行表面處理。
2.等離子表面處理器處理后去除了碳化氫類污物，如油脂，輔助添加劑，有利于粘結、性能持久穩(wěn)定，保持時間長。
3.溫度低、適合運用于那些表面材料對溫度敏感的制品。
4.不需要箱體，可以直接安裝在生產(chǎn)線上，在線運行處理。相對與磨邊機的反向運行，大大提高了工作效率。
5.只消耗空氣和電，因此運行成本低，操作更安全。
6.干式方法處理無污染，無廢水，符合環(huán)保要求；并且替代了傳統(tǒng)的磨邊機，杜絕了紙粉紙毛對環(huán)境及設備的影響。
7.經(jīng)等離子表面處理器處理后，可采用普通膠水來粘盒，降低了生產(chǎn)成本。
等離子處理設備是一種高技術的設備，能夠在微觀尺度上進行清洗和表面改性。其原理是借助于等離子體反應生成活性氣體，并使這些氣體與待處理物表面發(fā)生碰撞作用，從而實現(xiàn)對物體表面的清洗和改性。以下將詳細介紹等離子處理設備的原理。
一、等離子狀態(tài)
等離子狀態(tài)是常見物質狀態(tài)之一，類似于固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)以及波動態(tài)。等離子體是由氣體或者液體中的分子或原子組成的高溫、高能帶電粒子集合體，其特點之一是其具有自激勵性質，即在一定情況下，它們能夠釋放出足夠的能量來促使更多原子或分子進入等離子態(tài)。
二、等離子處理設備的基本原理
等離子處理設備利用等離子變化能夠產(chǎn)生的大量質子、氧離子、氮離子、硅離子等帶異性質的粒子，并加速這些粒子，將它們引導到待處理物表面，這些粒子與物體表面的原子或者分子碰撞后，會釋放出巨大的能量，這個過程稱為離子表面交互反應過程。這些反應產(chǎn)生的碰撞粒子的能量所激發(fā)物體表面分子的原子層具有不同的效應，如化學反應、物理反應和結構變化等。
三、等離子處理設備的操作過程
等離子處理設備由等離子發(fā)生器、等離子噴霧裝置、真空泵系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。其工作流程包括以下幾個步驟：
1.真空抽除：將待處理物置于等離子處理室中，開啟泵系統(tǒng)，將氣體排出，形成真空環(huán)境。
2.等離子振蕩：通過高頻電源產(chǎn)生感應電場，將氣體激勵起來，從而產(chǎn)生等離子體。
3.等離子擴散：等離子體向外擴散，與待處理物接觸并發(fā)生離子表面交互反應，從而實現(xiàn)對物體的清洗和改性。
4.進料：對待處理的物體進行進料，并使其暴露在等離子體前緣處。
5.等離子處理：對待處理的物體進行等離子表面交互反應，從而實現(xiàn)清洗和改性的目的。
6.結束處理：當處理完成后，要將氣體排出，并關閉設備。
四、等離子處理設備的應用
等離子處理設備已廣泛應用于各種領域。在電子行業(yè)中，它被用于微電子制造和集成電路清洗；在醫(yī)療行業(yè)中，它被用于殺菌和消毒；在化學工藝中，它被用于表面噴涂和材料改性；在環(huán)保治理中，它被用于廢水處理和氣態(tài)污染物處理。其利用等離子技術，既能達到有效、環(huán)保的處理效果，又不會對待處理物體造成損傷，成為一種非常有前途的清洗和改性的方法。
綜上所述，等離子處理設備通過產(chǎn)生等離子體反應生成活性氣體，實現(xiàn)對物體表面的清洗和改性。該技術已經(jīng)得到廣泛應用，在電子、醫(yī)療、化學、環(huán)保等領域都有著重要的作用。等離子處理技術廣泛用于材料的表面處理，是一種有效、環(huán)保、節(jié)能的處理方法。等離子體是由高溫電離氣體產(chǎn)生的一種充滿電荷的狀態(tài)，可以通過幾乎任何非金屬的表面進行化學修飾和物理改性，實現(xiàn)對表面性質的調控。等離子處理后，多久有效與樣品性質、處理條件以及后續(xù)環(huán)境等因素有關。
樣品性質
不同的材料具有不同的表面化學反應活性、內部結構以及物理性質，其對等離子處理的響應也會有區(qū)別。例如，聚合物、陶瓷、玻璃、金屬等材料對等離子處理的敏感度和穩(wěn)定性不同。而且，即使是同一種材料，在不同的材料加工工藝、生產(chǎn)方式或者來自不同來源的供應商可能都會影響到處理后樣品的有效性。
處理條件
等離子處理的成本較高，尤其是在大規(guī)模生產(chǎn)領域中，處理時間和處理氣體種類、濃度等因素都會對處理效果造成影響。比如說，在相同處理下，使用不同的氣體和功率密度處理相同材料的結果可能會不一樣。 在優(yōu)化等離子處理工藝時，需要考慮維持較長時間的穩(wěn)定操作條件，并防止過量電離和表面氧化。
后續(xù)環(huán)境
材料的使用環(huán)境對其性能具有重要影響。在實際應用中，光、潮濕、高溫、低溫或化學介質等都可能導致等離子處理效果的退化或失效。例如，等離子處理的特殊表面活性可能會因為自然環(huán)境暴露而漸漸減弱。 因此，在等離子處理后多久有效這個問題上，還要看考慮使用的時間和條件。
總之，等離子處理的效果受到眾多因素的影響，沒有明確的答案。因此，在實踐中，需要進行多次實驗，在合適的控制下觀測等離子體處理后的材料的性質變化是否達到預期。而且等離子處理技術目前依然處于發(fā)展初期，需要開展更深入的研究和商業(yè)應用，以提有效率和穩(wěn)定性，為其在各種領域應用打下基礎。
